The effectiveness of long-pulse 1064 nm neoymium-doped yttrium aluminum garnet laser for recalcitrant palmoplantar and ungual warts [TURKDERM]
TURKDERM. 2015; 49(4): 271-275 | DOI: 10.4274/turkderm.41017  

The effectiveness of long-pulse 1064 nm neoymium-doped yttrium aluminum garnet laser for recalcitrant palmoplantar and ungual warts

Ali Balevi, Burcu Işık, Yeliz Uçar Tavlı, Seçil Engin Uysal, Mavişe Yüksel, Sümeyye Altuntaş Kakşi, Mustafa Özdemir
Department Of Dermatology, Medipol University, Istanbul, Turkey

Background and Design: Some of palmoplantar and ungual warts are resistant to conventional treatments. In this study, we aimed to investigate the efficacy of non-ablative 1064 nm long pulsed neoymium-doped yttrium aluminum garnet (Nd: YAG) laser treatment on recalcitrant palmoplantar and ungual warts.
Materials and Methods: Sixty-three patients with recalcitrant palmar, plantar and ungual warts were included in the study. Laser is applied in 4 sessions at 4-week intervals. The study employed the Nd: YAG (80 W). The following parameters were used: spot size: 4 mm; pulse duration: 15 msec; and fluence: 150 J/cm2. Treatment responses were evaluated statistically and side effects were recorded.
Results: The number of patients who were completely cleaned and partially cleaned were 37 (66%) and 15 (26%), respectively. Four patients (4%) did not respond to treatment. In statistical analysis, there were no significant differences in palmar, plantar or ungual sites in term of complete clearance (p=0.20, p=0.82 and p=0.94, respectively). In addition, there was no association between the number of lesions and complete clearance (p=0.97).
Conclusion: Long-pulsed Nd: YAG laser, which does not affect daily activity, is a safe and alternative method and may be recommended for patients with recalcitrant palmoplantar and ungual warts.

Keywords: Lasers, neodmymium-doped yttrium aluminum garnet, warts


Tedaviye dirençli palmoplantar ve ungual siğillerde uzun atımlı 1064 nm neodimyum katkılı itriyum alüminyum granat lazerin etkinliği

Ali Balevi, Burcu Işık, Yeliz Uçar Tavlı, Seçil Engin Uysal, Mavişe Yüksel, Sümeyye Altuntaş Kakşi, Mustafa Özdemir
Medipol Üniverisitesi Tıp Fakültesi, Dermatoloji Ana Bilim Dalı, İstanbul

Amaç: Palmoplantar ve ungual siğillerin bir kısmı geleneksel tedavilere dirençlidir. Biz bu çalışmada; 1064 nm uzun atımlı Nd: YAG lazerin, tedaviye dirençli palmoplantar ve ungual siğiller üzerindeki etkinliğini araştırmayı amaçladık.
Gereç ve Yöntem: Geleneksel tedavilere dirençli palmar, plantar veya ungual siğili olan 63 hasta alındı. Dört hafta arayla 4 seans uygulama yapıldı. İşlemlerimizde neodimyum katkılı itriyum alüminyum granat (Nd: YAG) (80 W) lazer cihazı kullanıldı. Uygulamalar 4 mm başlık ile 150 J/cm2, 15 milisaniye şeklinde yapıldı. Tedaviye yanıtlar istatistiksel olarak değerlendirildi ve yan etkiler kaydedildi.
Bulgular: Siğilleri tamamen temizlenen hasta sayısı 37 (%66), kısmi temizlenen hasta sayısı 15 (%26) idi ve 4 (%8) hastada ise tedaviye cevap vermedi. Yapılan istatistiksel analizde, palmar, plantar veya ungual bölgedeki siğillerde tam temizlenme açısından fark saptanmadı (p=0,20, p=0,82, p=0,94 sırasıyla). Ayrıca lezyon sayısı ile tam temizlenme arasında da anlamlı bir ilişki yoktu (p=0,97).
Sonuç: Uzun atımlı Nd: YAG lazerler özellikle konvansiyonel tedavilere dirençli palmoplantar ve ungual siğillerde etkili, yan etkisi az ve günlük yaşam aktivitelerini bozmayan alternatif bir tedavi yöntemi olarak önerilebilir.

Anahtar Kelimeler: Lazerler, neodimyum katkılı itriyum alüminyum granat, siğiller


Ali Balevi, Burcu Işık, Yeliz Uçar Tavlı, Seçil Engin Uysal, Mavişe Yüksel, Sümeyye Altuntaş Kakşi, Mustafa Özdemir. The effectiveness of long-pulse 1064 nm neoymium-doped yttrium aluminum garnet laser for recalcitrant palmoplantar and ungual warts. TURKDERM. 2015; 49(4): 271-275

Corresponding Author: Ali Balevi, Türkiye


TOOLS
Full Text PDF
Print
Download citation
RIS
EndNote
BibTex
Medlars
Procite
Reference Manager
Share with email
Share
Send email to author

Similar articles
PubMed
Google Scholar